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《絕緣體基片資料》包括專利技術全文資料6份。
0001)用硅絕緣體(SOI)基片上的應變Si/SiGe層的遷移率增強的NMOS和PMOS晶體管

0002)在半導體基片上形成溝槽絕緣的方法

0003)貼合絕緣體基外延硅基片及其制造方法與半導體裝置

0004)復合式絕緣體上硅薄膜基片及其制作方法

0005)一種基于絕緣體上硅片的應力傳感器芯片

0006)硅絕緣體基片、半導體基片及它們的制造方法



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