鑲嵌蝕刻技術資料-鑲嵌壁畫-蝕刻-鑲嵌蝕刻-鑲嵌相移光-鑲嵌方法中類資料（198元/全套）選購時請記住本套資料（光盤）售價：198元；資料（光盤）編號：F150764
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《鑲嵌蝕刻資料》包括專利技術全文資料93份。
0001)蝕刻介電層形成接觸窗和介層窗的方法以及鑲嵌工藝

0011)具有規則鑲嵌構造輪廓的制造方法
0012)制造銅鑲嵌結構的方法
0013)采用犧牲金屬氧化物層形成雙鑲嵌金屬互連的方法
0014)包含苯乙烯(*)半導體存儲器件及其使用鑲嵌柵極和外延生長的制造方法
0016)介層洞優先雙鑲嵌制程
0017)使用碳摻雜層和無碳氧化物層的雙鑲嵌工藝
0018)大型玻璃鑲嵌壁畫的工藝方法
0019)應用硅過飽和氧化層的雙鑲嵌制程及其構造
0020)水晶玻璃鑲嵌金屬蝕刻畫
0021)鑲嵌式藝術銅門
0022)銅金屬鑲嵌工藝及其結構
0023)雙金屬鑲嵌互連的制造方法
0024)形成雙重鑲嵌圖案的方法
0025)雙鑲嵌式開口結構的制作方法
0026)用于形成雙金屬鑲嵌結構工藝的洗滌液及基板處理方法
0027)形成多層低介電常數雙鑲嵌連線的制程
0028)無凹陷銅鑲嵌結構的制造工藝
0029)預防雙重金屬鑲嵌結構的金屬漏電的氮化物阻障層
0030)在鑲嵌制程中形成金屬電容器的方法及其產品
0031)銅金屬鑲嵌結構
0054)用以制造半導體裝置的雙鑲嵌制程
0064)鑲嵌式內連線結構的制造方法
0065)形成金屬鑲嵌結構的方法
0066)利用超臨界流體處理的雙鑲嵌結構及其形成方法
0067)在銅鑲嵌制程中制作MIM電容器的方法
0068)雙重金屬鑲嵌結構的制造方法
0069)阻絕氣體釋放及凸出結構產生的雙鑲嵌方法
0070)通過形成鑲嵌互連制造半導體器件的方法
0071)鑲嵌結構的位元線接觸窗插塞的制作方法
0072)金屬鑲嵌制程的去除光阻的方法
0073)在形成有導電結構的半導體基底表面形成雙鑲嵌結構的方法
0074)于鑲嵌結構中制造磁性隨機存取內存補償單元的方法
0075)制造雙重鑲嵌接觸窗的方法
0076)自動對準鑲嵌柵極
0077)衰減鑲嵌相移光掩模空白片
0078)一種制作雙鑲嵌結構的方法
0079)形成無蝕刻停止層的雙鑲嵌結構的方法
0080)應用于約束等離子體反應室的半導體雙鑲嵌蝕刻制作過程
0081)在雙重鑲嵌方法中的低介電常數的阻蝕刻層
0082)以鑲嵌工藝形成柵極的方法
0083)形成鑲嵌結構的方法
0084)雙重金屬鑲嵌結構的制造方法
0085)半導體元件及制造鑲嵌結構中的金屬絕緣金屬電容的方法
0086)半導體裝置、鑲嵌結構及互連線結構的形成方法
0087)具有含氣隙的鑲嵌結構的半導體器件的制造方法
0088)具有鑲嵌形成的配線的半導體器件及其制造方法
0089)具有電容器的雙鑲嵌構造及其制造方法
0090)形成半導體鑲嵌結構的蝕刻制程
0091)雙鑲嵌金屬內連線結構及其制作方法
0092)鑲嵌銅布線圖像傳感器
0093)防止鑲嵌式銅金屬受損的結構及其方法



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