細度：0.1

產(chǎn)品規(guī)格：公斤

材質(zhì)、類型：化學(xué)類添加劑

一、工藝特點  1、陰極電流效率22~27%，沉積速度快，節(jié)省電能。2、不含氟化物，不腐蝕陰極低電流密度區(qū)之工件底材。3、不腐蝕陽極4、鍍層光亮細致、與基體結(jié)合牢固。5、鍍層硬度可高達HV1100。6、鍍層微裂紋數(shù)達400條/厘米以上，具有高耐蝕性。7、鍍層平滑、厚度均勻，分散能力強。8、工藝穩(wěn)定，維護簡單，便于操作，直接轉(zhuǎn)換！二、工藝規(guī)范              工藝參數(shù)成  份工 藝 范 圍最  佳  值鉻酸150~300克/升250克/升硫酸1.5~3.5克/升2.5克/升HY-28~12毫升/升10毫升/升溫度45℃～65℃60℃陰極電流密度20~70安培/平方米60安培/平方米陽、陰極比例>1.52鉻酸：硫酸100:0.8~1.4100:1.2三、鍍液的配制  1、鍍槽中加入60%體積之去離子水。2、按工藝規(guī)范加入所需數(shù)量的鉻酸、硫酸和HY-2催化劑，充分攪拌。3、添加去離子水至所需體積。4、加溫至58℃～63℃,電解4～6小時即可使用。          四、設(shè)備 鍍槽：鐵槽內(nèi)襯SPVC或橡膠，及其它認可材料。 陽極：含錫7～13%（重量）之鉛錫合金。整流器：紋波系數(shù)須控制在5%以內(nèi)。溫控裝置：熱交換器采用鈦質(zhì)或聚四氟乙烯及其它認可材料。五、前處理與鍍液的轉(zhuǎn)化HY-2鍍鉻工藝前處理與普通鍍鉻一樣，無其它特殊要求。鍍液轉(zhuǎn)化：普通鍍鉻轉(zhuǎn)化為HY-2鍍鉻工藝，只須將鍍液樣品交本公司化驗，確認以往添加劑不含氟化物，無機金屬雜質(zhì)不超過7克/升，按補加量加入HY-2催化劑，電解兩小時即可生產(chǎn)。六、鍍液的補充消耗量：按照鉻酐與HY-2催化劑比例50：1添加（任選一項），維持鍍液之鉻酐濃度即可。