對于鍺或硅這種純質（本征）半導體來說，低溫下這些物質根本不導電。只有摻雜一些雜質時，這些物質才能導電。芯片行業和研究行業中經常用到的摻雜方法就是離子注入。 在這個過程中， 會將雜質鋼注入半導體的晶格中。

即使在離子轟炸或離子摻雜等極端條件下，紋理細密、具有高密度的石墨的腐蝕性仍非常低。正因如此，石墨屏蔽體就能保護暴露在高磨損環境下的金屬元件，這些金屬元件來自離子注入設備的離子束。除提供石墨屏蔽體元件之外，弘竣實業也提供電極和離子源，這些產品是用耐沖蝕且高純度的石墨生產而成的，適用于各種類型的離子注入機。

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