我公司擁有多名日本專家、博士工程師及先進經營管理團隊，擁有專業從事碳化硅涂層以及對石墨產品進行高溫純化除雜技術。公司產品及技術廣泛應用于半導體行業，LED行業，航天行業，化工行業，光伏行業，包裝行業，耐腐蝕行業、冶金行業等領域。

   公司通過引進國外最先進的CVD法碳化硅涂層及高溫純化裝置與技術，根據客戶需要為不同形狀，不同結構和大小的石墨件純化除雜，純化后的石墨雜質可降至小于5PPM,并采用高溫化學氣相沉積法沉積指定厚度的碳化硅涂層。

   相比以往的工藝，CVD法生產的碳化硅晶體結構致密，晶格排列整齊，與沉底材料結合更緊密等優勢。具有耐高溫，耐磨損，耐腐蝕，易導熱的特點，憑借這些涂層，我們的產品被廣泛應用于制作流化床和熱氫化的反應器部件，CZ直拉單晶爐的導流筒部件，以及硅外延和GaN外延的托盤。

產品指標：

ü 材料：進口等靜壓高純石墨

ü 純度：小于5ppm

ü SIC涂層厚度：120µm±30µm(涂層厚度可根據客戶要求定制)

ü 涂層表面粗糙度：6-8µm

ü 涂層后基座電阻率：0.0004-0.00045Microhm-m

ü 高均勻度和優異的熱傳導性

ü 耐電漿轟擊

ü 極佳均溫性

ü 高耐腐蝕性和穩定性

ü 理想的電阻特性

ü 使用壽命長

應用領域：

ü LED芯片產業MOCVD外延片承載石墨托盤