電子超純水一般工藝流程： <?xml:namespace prefix = o ns = "urn:schemas-microsoft-com:office:office" />

　　(水質符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)

　　典型工藝2:原水→預處理→反滲透→EDI→精密過濾→用水點

•預處理－反滲透－中間水箱－水泵－混合床－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－精密過濾器－用水對象

•預處理－一級反滲透－加藥機（ PH調節）－中間水箱－第二級反滲透－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5 μ m精密過濾器－用水對象

•預處理－反滲透－中間水箱－水泵－ EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5 μ m精密過濾器－用水對象

•預處理－反滲透－中間水箱－水泵－ EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－0.2或0.5 μ m精密過濾器－用水對象

應用場合：

•半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；

•超純材料和超純化學試劑；

•實驗室和中試車間

•汽車、家電表面拋光處理；

•其他高科技精微產品。